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美國QED自由曲面拋光設備Q-FLEX 300型
2023-01-06 09:54:32

Q-flex系統提供了MRF精加工的所有傳奇決定因素,以及模塊化、生產就緒平臺的靈活性和可重復性,幫助您更智能地制造。Q-flex系統提供了前所未有的制造能力,尤其是在困難的領域,如自由曲面和自由曲面。

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柔性技術

模塊化MRF頭設計,實現快速無工具轉換。

流體控制模塊(FCM)提供了改進的流體穩定性、校準和可重復性能,以及快速更換流體和易于清潔。

QED.NET軟件具有易于使用的向導,可完全配置,以實現任何級別的操作員技能的最佳吞吐量。

 

Q-FLEX 300型

靈活的體系結構

Q-flex系統的頭部和FCM在家族平臺中是通用的,可以在Q-flex機器之間共享。幾分鐘內,MRF頭的尺寸可以從10毫米、20毫米、50毫米和150毫米改變,以滿足您的拋光需求。

 

為卓越而設計

Q-flex系統的模塊化意味著您可以將機器與您的工作量相匹配,為您的精密光學車間帶來更高的效率。Q-flex系統設計用于面向生產的環境。

 

Q-flex系統提供了MRF精加工的所有傳奇決定因素,以及模塊化、生產就緒平臺的靈活性和可重復性,幫助您更智能地制造。Q-flex系統提供了前所未有的制造能力,尤其是在困難的領域,如自由曲面和自由曲面。

 

幾分鐘內,MRF頭的尺寸可以從10毫米、20毫米、50毫米和150毫米改變,以滿足您的拋光需求。

 

可以選擇拋光頭以優化拋光工具尺寸(光斑)、凹形零件半徑、自由形狀等。

頭部可以快速和動態地調整為旋轉、光柵或自由形式模式。

通過內置探測站自動調整頭部。

頭部推車用于高效操作和方便的零件存儲。

清潔后設置更快、更容易,具有更高的日常和操作員對操作員的重復性。

流體控制模塊(FCM)將流體輸送系統硬件和控制裝置安裝在一個組件中。

 

使用多個FCM,流體轉換可以在幾分鐘內完成。

MRF流體可保持在基礎機器內或遠離基礎機器的旁路中。

清理很簡單:FCM安裝在輪子上,可以移動到清潔站。

使用新的EFMS(電子流體監測系統)流體控制系統,您可以獲得更好的流體強度控制。

R-FLEX 300型

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咨詢電話:135 2207 9385

 

Q-FLEX 300型

傳奇的MRF功率和精度

“繞輪”虛擬軸技術,實現真正的自由拋光。

 

拋光模式

選擇最適合您需求的拋光模式!

旋轉和自由旋轉拋光

零件尺寸高達:~300 mm*

半角最大90度

零件孔徑:圓形

旋轉模式:

零件形狀:平面、球體、非球面

自由旋轉模式:

零件形狀:環形、離軸非球面、自由形式

光柵和自由光柵拋光

零件尺寸高達:~300 mm x 300 mm*(根據幾何形狀,可獲得較大的零件)

零件孔徑:圓形、矩形、六邊形、橢圓形、通過位圖孔徑定義的客戶形狀

光柵模式:

零件形狀:平面、圓柱體、棱柱

最大90度的半角(僅限氣缸)

自由形式光柵模式:

零件形狀:球體、非球面、環形、離軸非球面、自由形式

在X方向上最大為90度,在Y方向上為30-45度的半角(取決于車輪)

人體工程學零件加載

允許符合人體工程學的零件安裝和對齊。

安裝并對中后,移動到反向拋光位置。

 

技術規范:

最小凹曲率半徑**

150mm封頭    105毫米CCV

50mm封頭     35毫米CCV

20mm封頭     14毫米CCV

10mm封頭     7毫米CCV

 

最大半角(使用“繞輪”功能時)

150mm封頭    30度

50mm封頭     45度

20mm封頭     40度

10mm封頭     40度

 

機器規格:

最大工件重量*      18.8 kg(包括透鏡架)

工件附件           真空卡盤

各軸               X、 Y、Z、A***、B***+虛擬軸

人機界面           HMI用戶界面,帶有觸摸屏/QED.NET軟件,標準PC運行Windows?10

MRF拋光液         與QED全系列MR流體兼容,包括C10+、C12、C30、D10、D11和D20。

機器占地面積       1.91 m寬x 3.23 m深

所需最小占地面積   2.84 m寬x 4.32 m深

機器安裝高度       2.33 m高

機器總重量         4082千克(估計)

壓縮空氣(分鐘)****6巴,85?/分鐘,干燥并過濾至10μm

 

電氣部分

選項1   200-220 VAC,50/60 Hz,30A,3ph+PE(4線)

選項2   400 VAC,50/60 Hz,15A,3ph+N+PE(5線)

 

典型能力

形狀/圖形校正

高度收斂性        在1次迭代中提高5-10倍

不合乎常規的行為  低至λ/30-λ/40(PV)或更低,受計量再現性限制

 

粗糙度改善

微觀粗糙度   在大多數具有任何MR流體的材料上<1 nm rms/在大多數具有特定MR流體的玻璃和單晶上<0.5 nm rms;

超低微粗糙度  在某些具有特定MR流體的材料上可達到0.1-0.2 nm rms。

 

表面質量/完整性改善

提高抗激光損傷能力

清除地下損壞

消除應力

去除霧霾,敏感眼鏡上的精細化產品

 

為特殊目的誘導特定的形式/圖形

通過僅拋光1個表面來校正透射波前誤差

校正棱鏡角度誤差

正確的薄膜厚度變化

創建“相位板”或引起其他特定畸變表面誤差

 

*請注意,

工件幾何形狀和重量規格是用作一般指南的近似值。由于難以量化的其他因素,例如工件慣性,在某些情況下確實可以運行該范圍之外的零件,以及在所有情況下都可能無法運行的該范圍內的零件。當嘗試超出這些限制的零件時,請小心,或聯系QED以獲得進一步指導。

**半徑范圍取決于特定零件幾何圖元和頭部幾何圖元

***可用軸取決于購買的選項

****3/8“最小空氣管道,1/4 NPT內螺紋(連接由客戶提供)


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