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美國QED自由曲面拋光機Q22-1200
2023-01-10 11:15:34

用一臺機器拋光和精加工尺寸達1.2米的自由曲面光學器件,達到高精度!

最新的MRF技術

擴展的尺寸能力

拋光孔徑尺寸達1200 mm

QED.NET軟件

EFMS(電子流體監測系統)流體控制系統。

技術能力

拋光高達1200 mm x 1200 mm的平面球、非球面、柱面和自由曲面光學器件

多部件批量拋光軟件

4種不同的軸配置可用

可互換拋光頭

50 mm MRF砂輪可拋光小表面特征并減少邊緣效應。

370 mm MRF車輪具有高材料去除率,可快速覆蓋大表面。

拋光墊可用于預拋光或拋光:

可變軌道和旋轉RPM

可變壓力

50mm和100mm拋光墊

 

Q22-1200

大規格

拋光孔徑尺寸達1200 mm

 

技術規范

工件

最大工件尺寸*    1200毫米

最大工件重量*    400 kg(包括透鏡架)

最大半角         30度

工件連接裝置**   機械(真空可選)

各軸***           X、Y、Z、A、B、C、Q、Zp

 

移動范圍***

(X)        1606毫米

(Y)        1016毫米

(Z,Z素)  740毫米

(B)        B+/-32度

(C)        C+/-35度

(Q,A)    連續或360度

 

定位精度***

(X,Y,Z)    +/-0.0076毫米

(B,Q)       +/-20弧秒

(D)          +/-10弧秒

 

Q22-1200配置       3軸       4軸        5軸         6軸

坐標軸              X,Y,Z       X,Y,Z,C      X,Y,Z,B,C      X,Y,Z,B,C,Q

平面光學的MRF拋光950 x 1200  950 x 1200  12000 x 1200  1200 x 1200

平板光學墊拋光     950 x 1200   950 x 1200  950 x 1200   950 x 1200

“溫和”球體、非球面和自由光學的MRF拋光  950 x 1200

柱面、球面、非球面和自由曲面光學的MRF拋光  1200x1200, 1200x1200   1200x1200

平面、球面和非球面光學的襯墊拋光                      1200 x 1200

 

咨詢電話:135 2207 9385

 

機器規格

機器占地面積         4.08 m寬x 3.72 m深

所需最小占地面積     5.56 m寬x 5.76 m深

機器安裝高度         3.67 m高

機器總重量           13636千克

最小門開度(寬x高) 3.69米x 2.97米

與電有關的           210 VAC,50/60 Hz,63A,3ph+N+PE(5線)

水****               包括獨立冷卻器

壓縮空氣            87磅/平方英寸(6巴),3cfm(85?/min),干燥并過濾至10μm

 

電氣的部分:

與電有關的         210 VAC,50/60 Hz,63A,3ph+N+PE(5線)

水****             包括獨立冷卻器

壓縮空氣           87磅/平方英寸(6巴),3cfm(85?/min),干燥并過濾至10μm


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